AOI检测步骤分享光刻机

光刻机气体过滤是通过一系列过滤器和处理设备，对光刻机使用的气体进行过滤和净化的过程。光刻机是半导体制造过程中的关键设备，用于将电路图案转移到半导体芯片表面。在这个制造过程中，使用各种气体，如氮气、氩气等，以及涉及到化学品，如光刻胶。

气体过滤的主要目标是确保光刻机内的气体达到所需的纯度和稳定性，以保障半导体生产的质量和效率。